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堿性蝕刻液 PC-500
PC-500堿性蝕刻液為高速、高含銅量,針對(duì)細(xì)線路特別設(shè)計(jì)之電路板蝕刻液,藥液穩(wěn)定,且適合各種如錫、錫鉛、鎳、金等抗蝕刻材料。
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特性
應(yīng)用
技術(shù)指標(biāo)
備注信息
- 產(chǎn)品性狀
品 名 | 外 觀 | 比 重 | pH | 氯 離 子 |
PC-500 | 無(wú)色透明液體 | 1.03±0.02 | ≧9.6 | 170±20g/L |
- 配槽方法
- 用水清洗后,排放完全再貫注清水,打開噴灑馬達(dá)操作10分鐘后排出槽內(nèi)用水;
- 貫注5-10%稀鹽酸、打開噴灑馬達(dá)操作30分鐘,再排掉所有槽內(nèi)用水;
- 改用清潔水重復(fù)步驟(2),檢查管路是否漏水;
- 卸下所有噴嘴,浸漬于10%鹽酸溶液中,清洗阻塞,裝回噴嘴;
- 貫注5%氨水,打開噴灑馬達(dá)操作30分鐘,再掉所有槽內(nèi)用水;
- 改用清潔水,重復(fù)步驟(5);
- 貫注母液,打開溫度控制閥,檢查pH、比重、氯離子、銅含量并確保在范圍內(nèi),開始生產(chǎn)。
- 槽液控制與維護(hù)
操作條件 | 范圍 | 最適值 |
氯離子 | 170-200g/L | 180g/L |
銅含量 | 130-170g/L | 150g/L |
pH | 8.1-8.8 | 8.3-8.5 |
比重 | 1.19-1.230 | 1.215 |
溫度 | 45-55℃ | 50℃ |
處理時(shí)間 | 30-180秒 | 依設(shè)備及溫度而差異 |
備注:連續(xù)生產(chǎn)時(shí),須裝冷凍設(shè)施 |
- 槽液分析方法:
- 氯含量分析:
- 取10mL PC-500(子、母)蝕刻液,置于250mL容量瓶中;
- 往容量瓶中加2-3mL氨水,用蒸餾水稀釋至刻度;
- 從250mL容量瓶中吸取5mL溶液,放入250mL錐形瓶中,加100mL DI水;
- 加1mL5%鉻酸鉀指示劑,另加5mL 2%醋酸,溶液變亮黃色;
- 用標(biāo)準(zhǔn)0.1N硝酸銀溶液滴定至微紅棕色。
- 銅含量分析:
- 取上述稀釋PC-500蝕銅液10mL,放入250 mL錐形瓶中;
- 加50-100 mL蒸餾水;
- 加氨水?dāng)?shù)滴至清亮深藍(lán)色;
- 加MX(紫脲酸胺)指示劑0.1克;
- 用標(biāo)準(zhǔn)0.1N EDTA溶液滴定至紫紅色。
- pH值測(cè)定:
- 取200 mL藥液于200mL燒杯中;
- 以4.0 和7.0 標(biāo)準(zhǔn)液校正pH計(jì);
- 緩慢將pH電極放入燒杯中,準(zhǔn)備讀取pH計(jì)顯示值為實(shí)測(cè)pH值。
- 操作問(wèn)題、原因及對(duì)策說(shuō)明
問(wèn)題 | 原因 | 對(duì)策 |
速度慢 | 銅含量太高或太低 | 調(diào)整銅含量或控制器比重設(shè)定值 |
溫度過(guò)低 | 升高溫度 | |
壓力偏低 | 調(diào)整壓力 | |
氯離子偏低 | 添加蝕刻鹽 | |
pH偏低 | 減少抽風(fēng)量或添加氨水 | |
打氣不足 | 加大打氣 | |
側(cè)蝕太大 | pH太高 | 增加抽風(fēng)量或含銅量加水或氨水稀釋 |
壓力太高 | 降低壓力 | |
速度太慢 | 調(diào)整傳送速度 | |
氯離子過(guò)高 | 加子液或加水 | |
銅厚度不均勻 | 改善鍍銅均勻度 | |
沉淀 | 銅含量過(guò)高 | 添加子液 |
PH過(guò)低 | 添加氨水、減少抽風(fēng) | |
氯離子太低 | 添加蝕刻鹽 | |
漏水 | 檢查冷卻管或水洗水滲漏 |
- 安全防護(hù)